Ионная имплантация
| Модель обрудования | Наибольший диаметр подложки, мм | Изготовитель |
|---|---|---|
|
Установка ионной имплантации Ulvac IH-860 |
150 | Ulvac (Япония) |
|
Установка ионной имплантации Ulvac IMX-3500 |
150 | Ulvac (Япония) |
|
Установка ионной имплантации IMX-3500 |
150 | ULVAC (Япония) |
|
Установка ионной имплантации CETC M56700-1/UM |
150 | CETC (Китай) |
|
Установка ионной имплантации Ulvac SOPHI 200/260 |
200 | Ulvac (Япония) |
|
Установка ионной имплантации CETC M58200-1/UM |
200 | CETC (Китай) |
|
Установка ионной имплантации |
300 | SPS Europe (Нидерланды) |
|
Установка ионной имплантации CETC M5525-300 |
300 | CETC (Китай) |
|
Установка ионной имплантации CETC M561000-1/UM |
300 | CETC (Китай) |
Ионная имплантация - метод легирования поверхностных слоев, заключающийся в обработке поверхности потоком высокоэнергетичных ионов и внедрении их в объеме материала.